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電鏡防振臺結(jié)構(gòu)原理
2025-03-07

在電子顯微鏡(電鏡)的微觀探索領(lǐng)域,圖像的清晰性和準(zhǔn)確性至關(guān)重要。而電鏡防振臺作為保障電鏡穩(wěn)定運行的關(guān)鍵部件,其特殊的結(jié)構(gòu)原理發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。電鏡防振臺的主要目標(biāo)是隔離外界振動對電鏡的干擾,為電鏡創(chuàng)造一個近乎“靜止”的工作環(huán)境。其結(jié)構(gòu)...

  • 2023-01-06

    光刻機,這是一個全新已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光設(shè)備。它以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統(tǒng),可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構(gòu)和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn),如對更高精度的要求,因為這將嚴(yán)重影響設(shè)備的偏差律,并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。光刻機可較大提高對準(zhǔn)精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠家在先進(jìn)微電子、化和物半導(dǎo)體、硅基電功率、三維集成電路和納米等幾乎所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了解決方案。光刻機增加了對準(zhǔn)精度,該系列包括了光刻機、對...

  • 2022-12-30

    晶圓鍵合自動系統(tǒng)匯集多項技術(shù)突破,令半導(dǎo)體行業(yè)向?qū)崿F(xiàn)3D-IC硅片通道高容量生產(chǎn)的目標(biāo)又邁進(jìn)了一步。新系統(tǒng)晶圓對晶圓排列精度是過去標(biāo)準(zhǔn)平臺的三倍,生產(chǎn)能力更是比先前高出50%,此外GEMINIFBXT平臺還為半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用3D-IC及硅片通道技術(shù)掃清了幾大關(guān)鍵障礙,使半導(dǎo)體行業(yè)能夠在未來不斷提升設(shè)備密度,強化設(shè)備機能,同時又無需求助于越發(fā)昂貴復(fù)雜的光刻工藝技術(shù)。晶圓對晶圓鍵合自動系統(tǒng)是激活諸如堆疊式內(nèi)存,邏輯記憶以及未來互補金屬氧化物半導(dǎo)體圖像感應(yīng)器等3D裝置的一個關(guān)鍵步驟。...

  • 2022-12-26

    EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合機和納米壓印機的先進(jìn)供應(yīng)商,今天宣布,它已與先進(jìn)的技術(shù)集團(tuán)之一的肖特(SCHOTT)合作在特種玻璃和玻璃陶瓷領(lǐng)域,證明了12英寸納米壓印光刻技術(shù)(NIL)已準(zhǔn)備好用于制造波導(dǎo)/光的高折射率(HRI)玻璃晶片的大量圖案下一代增強/混合現(xiàn)實(AR/MR)耳機指南。此次合作涉及EVG公司專有的SmartNIL納米壓印工藝和SCHOTT的RealView高折射率玻璃晶片,并且將EVG的NILPhotonics內(nèi)開展在公司...

  • 2022-12-24

    在過去的幾十年中,生物技術(shù)設(shè)備的小型化極大地改善了臨床診斷,藥物研究和分析化學(xué)。現(xiàn)代生物技術(shù)設(shè)備,例如用于診斷,細(xì)胞分析和藥物發(fā)現(xiàn)的生物醫(yī)學(xué)MEMS,通常是基于芯片的,并且依賴于微米級和納米級生物物質(zhì)的緊密相互作用。根據(jù)市場研究報告,越來越多的醫(yī)療保健應(yīng)用正在使用bioMEMS組件。受諸如即時點測試,臨床和獸醫(yī)診斷等應(yīng)用的推動,到2021年,已占生物MEMS市場總量的86%。NIL納米壓印光刻技術(shù)已從利基技術(shù)演變?yōu)閺姶蟮拇笈恐圃旆椒?,該方法可通過將印跡或生物印跡到生物相容性...

  • 2022-12-22

    掩模對準(zhǔn)光刻機系統(tǒng),這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統(tǒng),可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構(gòu)和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn),如對更高精度的要求,因為這將嚴(yán)重影響設(shè)備的偏差律,并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。掩模對準(zhǔn)光刻機系統(tǒng)可較大提高對準(zhǔn)精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠家在先進(jìn)微電子、化和物半導(dǎo)體、硅基電功率、三維集成電路和納米等幾乎所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了解決方案。新一代掩模對準(zhǔn)光刻機系...

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